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  • 台積電猛踩死敵痛點 最強設備快到手!高層親曝內幕

    台積電為全球晶圓代工龍頭,但在先進製程領域上面臨三星、英特爾等大廠的強烈競爭,誰先取得更先進的晶圓代工設備,就有機會在技術能力掌握領先優勢,台積電上周透露將在2024年取得艾司摩爾(ASML)的極紫外光微影設備(EUV)的新一代版本高數值孔徑EUV,有趣的是,英特爾先前才宣布他們是第一家取得該設備的廠商,預計2025年之前投入生產。 路透社報導,台積電研究發展資深副總經理米玉傑上周在台積電技術論壇表示台積電2024年將取得最先進微影設備的最新版本,以因應客戶的創新需求。儘管米玉傑並未透露該設備將於何時投產,但台積電掌握最新一代的EUV設備也成為市場焦點。 此外,台積電業務開發資深副總經理張曉強說明,台積電2024年還不準備運用新的高數值孔徑EUV設備來生產,主要使用目的是跟夥伴進行研究。 值得一提的是,英特爾先前才表示,他們將是第一家收到該設備的廠商,並預計2025年前投產。若台積電真的能在2024年取得該設備,代表他在此事將超車英特爾,兩強較勁一來一往令人莞爾。 半導體產業調查機構TechInsights經濟學家G. Dan Hutcheson表示,EUV技術已成為走在行業頂端的重要關鍵,高數值孔徑EUV則是推進半導體技術的下一個重大創新,「台積電2024年擁有這種設備的重要性,在於他們更快速接觸到最先進技術。」 然而,台積電股價近期表現相當疲軟,今(20日)盤中再破底觸及495元,創下一年半以來的低點,且若以今年最高688元計算,台積電股價已重挫將近30%,市值慘摔超過5兆。

  • 台積電供應商不妙!ASML遭華爾街大鱷狙殺 押爆300億空單

    全球最大對沖基金「橋水」狂砸67 億美元做空歐洲股票,其中,荷蘭半導體設備商艾司摩爾(ASML)空單金額達10億美元(約台幣290億)居首位,該公司極紫外光(EUV)機台供應台積電、三星等晶圓代工大廠,在全球經濟可能陷入衰退,半導體產業出現雜因之際,艾司摩爾遭市場大鱷鎖定放空,投資人應留意骨牌效應。 路透報導,據研究機構Breakout Point統計,橋水公開資料顯示,本周至目前為止,橋水已放空21家歐洲企業,金額高達67億美元(約台幣1992億元),涵蓋金融、能源等產業領域。其中空單金額最高為半導體設備龍頭艾司摩爾、押注10億美元,其次是能源業TotalEnergies SE押空7.05億美元,製藥商Sanofi SA空單金額6.46億美元。看來橋水對歐洲市場看法悲觀。 據歐洲法令規定,投資機構若放空某檔股票股數超過0.5%,相關資訊必須對外披露,而做空倉位較小則不必,這意味著,橋水做空歐洲股票的部位可能更大。 分析指出,做空股票也是橋水基金有效的策略之一,2018年押空歐洲股市140億美元,其中包括ASML;2018年也做空歐股220億美元,引起外界關注。 據了解,橋水4月運用一籃子信用衍生性商品做空歐美公司債。橋水共同投資長Greg Jensen受訪時表示,選擇做空歐美公司債,是因為通膨將比聯準會(Fed)預期還要久,迫使Fed加快升息步伐。

  • 台積電該怕?死對頭掌門人出馬 遠赴歐洲搶超殺利器

    南韓半導體大廠三星電子近來動作頻頻,繼高層人事大搬風後,三星副會長李在鎔更預計本周前往荷蘭,向半導體設備業巨頭艾司摩爾(ASML)尋求合作。業界解讀,李在鎔這趟行程,目標是取得最先進的晶片製造設備。 綜合韓媒報導,李在鎔預定在本月7~18日訪問歐洲,尋求跟ASML的合作機會。該公司除了是三星最大的晶片製造夥伴之一,也是極紫外光(EUV)機台的唯一生產商,其是先進製程必備品。 報導指出,李在鎔親自出馬造訪ASML ,對三星來說,取得ASML的EUV微影設備十分重要,赴美國德州設立的先進晶圓廠需ASML配合,對於擴充韓國平澤市(Pyeongtaek)的晶圓廠更是不可或缺。據悉ASML今年EUV出貨量估計51台,其中台積電確保22台,三星則預定18台。 另根據《BusinessKorea》報導,三星加速提升先進製程良率,與台積電比拚3奈米製程,最新任命公司副總裁兼Flash開發部門負責人Song Jae-hyuk擔任半導體研發中心的新負責人,在代工業務方面人事也大洗牌,指派半導體設備解決方案部門的全球製造與基礎設施副總裁Nam Seok-woo,兼任晶圓代工製造技術中心負責人。晶圓代工技術創新團隊部分,三星則讓記憶體製造技術中心副總裁 Kim Hong-shik出任。 此外,三星更計畫今年7月籌組系統半導體和智慧型手機新部門,目標是在2025年讓Galaxy系列搭載新款自製專用晶片,來挑戰蘋果的M1產品。

  • ASML擴招團隊 中國罕見成最大出貨地

    荷蘭光刻機巨頭ASML中國公司表示,隨著上海市政府宣佈自6月1日起,進入全面恢復全市正常生產生活秩序階段,全面實施疫情防控常態化管理,該公司積極支持回應全面復工,正與相關部門協調,在做好防疫管理的前提下,穩步推進工作,更好地服務產業發展。 ASML同時提到,新冠疫情的影響是暫時的,中國市場的重要性和中國經濟持續向好的趨勢沒有變化,該公司將繼續深耕中國市場、履行中國承諾。目前,ASML在華的所有專案均在按計劃進行中,同時為了支持中國業務的增長,該公司今年將持續擴大中國團隊,計畫招聘200餘名員工。   光刻機是眾所周知的半導體製造核心設備,可以在矽片上勾勒出設計好的電路結構,目前ASML已發展成為全球最大的光刻機供應商。芯思想ChipInsights資料顯示,2021年ASML共出貨高端光刻機(EUV、ArFi、ArF)145台,佔據95.4%的全球市場份額,EUV市場佔有率達到100%。  作為全球積體電路的重要產地,中國自然也是阿斯麥不容忽視的市場。阿斯麥財報披露,2022年第一季,該公司共銷售62台光刻系統(上季為82台),其中中國大陸占比34%,罕見超越韓國和台灣成為ASML光刻機第一大出貨市場。2021年,中國大陸在ASML總營收中的占比為14.73%,台灣占比39.37%,韓國和美國分別占比33.4%和8.5%。  ASML表示,該公司已持續支援中國積體電路產業發展30多年,目前在中國的業務佈局包括14個辦公室,11個倉儲物流中心,2處研發中心,1個培訓中心和1個維修中心,擁有1,400多名員工,該公司「鐵三角」業務為中國市場提供領先的全方位光刻解決方案,包括光刻機台。 官網顯示,上海是ASML中國總部所在地,職能包括客戶支援、物流、軟體發展等。

  • 台積電攻1奈米快了 ASML大爆1關鍵指標:晶片業救星

    摩爾定律是否走到極限一直是半導體業界熱議的焦點,每一個製程世代質疑摩爾定律失效的聲音也從未間斷。獨家供應半導體微影設備大廠艾司摩爾(ASML)近日在一篇文章中指出,現有技術能實現1奈米製程,摩爾定律可持續生效10年甚至更長時間。而台積電為鞏固現有技術優勢,正朝向1奈米等更先進製程邁進。 摩爾定律是美國半導體大廠英特爾(Intel)創辦人之一戈登.摩爾(Gordon Moore)在1965 年所提出。電晶體數量左右了晶片的效能,摩爾當時發現,每個晶片上可容納電晶體數目,會按照幾何級數的法則增長,每1年約會增加1倍,運算性能提升 40%。 IT之家報導,ASML表示,在半導體領域,摩爾定律—這誕生於1965 年的前瞻推斷,扮演著如同光一樣的角色,指引晶片製造的每一次創新與突破,在過去的50 多年裡,摩爾定律不斷演進。 摩爾關於以最小成本製造複雜晶片的最初預測,也在演進過程中被轉述成各種各樣的表述,現在這個定律最常被表述為半導體晶片可容納的晶體管數量呈倍數增長。1975 年,摩爾修正自己預測:晶體管數量翻倍的時間從最初的1年上升到2年。 報導指出,摩爾認為,增加晶片面積、縮小元件尺寸以及優化器件電路設計是實現晶體管數量翻倍的三個重要因素。 ASML稱,在過去的15 年裡,很多創新方法使摩爾定律依然生效且狀況良好。從整個行業的發展路線來看,它們將在未來10年甚至更長時間內,讓摩爾定律繼續保持這種態勢。 在元件方面,目前的技術創新足夠將晶片的製程推進至少1奈米節點,此外,光刻系統分辨率的改進(預計每6 年左右縮小2 倍)和邊緣放置誤差(EPE)對精度的衡量也將進一步實現縮小晶片尺寸。 ASML強調,「只要我們還有想法,摩爾定律就會繼續生效。」

  • 台積電死敵也搶ASML最強EUV!外媒爆驚人天價 大到用三架747運送

    近年來,台積電、三星、英特爾在先進製程大戰打得火熱,為搶下晶圓代工市場,對極紫外光(EUV)設備需求大增。外媒報導,獨家供應半導體微影設備大廠艾司摩爾(ASML)新一代 High-NA EUV 設備飆出新天價,由於機台比前一代還要大30%,至少需要三架波音 747分批運送,預估一台要價約 4 億美元(約台幣119億元);有專家形容,買下High-NA EUV 設備就像擁有一把好槍,能搶得市場先機。 路透報導,ASML表示,去年第 4 季High-NA EUV設備訂單已有5台 ,預計於2024年交付。先前業內人士推估,下單一台動輒上百億台幣的最新EUV 肯定是大咖客戶,包括台積電、英特爾和三星。 ASML新一代 High-NA EUV 設備,因為精密度更高、設計零件更多,比前一代體積大 30% 左右,重量超過 200 公噸的雙層巴士大小,至少需要三架波音 747 分批運送,估每台價格4 億美元。將用於生產下一代晶片,晶片終端領域可涵蓋手機、筆電、汽車、AI 等。 微影製程技術是決定晶片上電路有多小的關鍵決定因素,High-NA有望減少66%尺寸大小。在晶片製造中越小越好,因為在同一空間中封裝的晶體管越多,晶片的速度就越快、能效越高。 產業調查機構 TechInsights專家 Dan Hutcheson 認為,High-NA EUV機台可為一些晶片製造商帶來顯著優勢,有點像誰擁有最好的槍,誰就能搶得先機。一旦錯失這設備,將從此失去競爭力。 台積電今年拉高資本支出至400~440億美元,相關支出多數用於先進製程,除了加速建廠2奈米及更先進製程晶圓廠,也極積投入相關半導體設備預訂採購。

  • imec展示最新High-NA EUV技術

     比利時微電子研究中心(imec)於國際光學工程學會(SPIE)舉行的先進微影成形技術會議上,展示其High-NA(高數值孔徑)微影技術的重大進展,包含顯影與蝕刻製程開發、新興光阻劑與塗底材料測試、以及量測與光罩技術優化。imec與台積電、英特爾等國際大廠有密切合作,業界預期先進製程在2025年之後將進入埃米(angstorm)時代,High-NA技術將是量產關鍵。  High-NA微影技術將是延續摩爾定律的關鍵,推動2奈米以下的電晶體微縮。imec致力於打造High-NA微影生態系統,持續籌備與極紫外光(EUV)微影設備製造商艾司摩爾(ASML)共同成立High-NA實驗室。該實驗室將會聚焦全球首台0.55 High-NA EUV微影設備的原型機開發。  imec執行長Luc Van den hove表示,imec與ASML合作開發High-NA技術,ASML現在正在發展首台0.55 High-NA EUV微影掃描設備EXE:5000系統的原型機。與現有的EUV系統相比,High-NA EUV微影設備預計將能在減少曝光顯影次數的情況下,實現2奈米以下邏輯晶片的關鍵特徵圖案化。  為了建立首台High-NA EUV原型系統,imec持續提升當前0.33 NA EUV微影技術的投影解析度,藉此預測光阻層塗佈薄化後的成像表現,以實現微縮化線寬、導線間距與接點的精密圖案轉移。同時,imec攜手材料供應商一同展示新興光阻劑與塗底材料的測試結果,在High-NA製程中成功達到優異的成像品質。同時也提出新製程專用的顯影與蝕刻解決方案,以減少微影圖案的缺陷與隨機損壞。  針對22奈米導線間距或線寬的微影應用,imec已經模擬了EUV光罩缺陷所帶來的影響,包含多層光罩結構的側壁波紋缺陷,以及光吸收層的線邊緣粗糙現象。imec先進微影技術研究計畫主持人Kurt Ronse表示,這些研究成果讓業界了解High-NA EUV微影製程所需的光罩規格。  此外,透過與ASML和材料供應商合作,imec針對負責定義圖案結構的光罩吸收層開發了新興的材料與架構。

  • ASML大擴產 台供應鏈吃補

     全球半導體廠今年拉高資本支出擴大先進製程及成熟製程產能,關鍵微影設備大缺貨,交期長達24~30個月,艾司摩爾(ASML)上周法人說明會中宣布將啟動大擴產計畫,同步提高極紫外光(EUV)及深極外光(DUV)產能。  其中,0.33數值孔徑(NA)EUV曝光機今年55台出貨目標可望達成,2025年產能目標將由原本預估的70台拉高至90台。  ASML今年產能已全滿,設備供不應求情況會延續到明年之後,在手訂單已排到2023年下半年。法人看好家登(3680)、帆宣(6196)、公準(3178)、意德士(7556)、翔名(8091)等ASML供應鏈合作夥伴今年營運續締新猷,且接單量能可望逐年大幅成長到2025年。  雖然包括俄烏戰爭及中國疫情封城等外在變數已衝擊消費性電子銷售,但車用及工控等晶片需求持續轉強,半導體產能仍然供不應求,包括台積電、英特爾、三星、聯電等均拉高資本支出積極擴產。ASML執行長溫彼得(Peter Wennink)在法說會中表示,市場對於先進和成熟製程節點的需求持續強勁,EUV及DUV曝光機訂單及出貨需求仍高於目前產能。  溫彼得說明,雖然當前的總體經濟環境仍充滿不確定性,但客戶在先進製程及成熟製程的擴產動作並未放緩,ASML今年EUV機台出貨目標55台,DUV機台出貨目標240台。其中,目前DUV機台產能只能滿足60%訂單,未出貨在手訂單已超過500台,新訂單交期長達兩年。  ASML原本預期至2025年EUV機台年產能將達70台,DUV機台年產能達375台,但法說會中指出將大幅拉高產能,至2025年EUV機台年產能預計將提升至90台,DUV機台希望可拉升至600台。同時,ASML預期0.55高數值孔徑(High-NA)EUV曝光機在2025年可認列5台營收貢獻,2026~2027年的年產能計畫擴增達20台。  ASML正在尋求供應鏈合作夥伴的產能支援,以達到2025年的擴產目標,相關擴產計畫將會在今年第四季對外說明。法人指出,帆宣與ASML合作多年並承接次系統模組代工訂單,公準提供精密零組件,意德士晶圓真空吸盤供應商,翔名提供黃光製程備品耗材,家登是最大的極紫外光光罩盒(EUV Pod)及晶圓傳送盒供應商,可望直接受惠。

  • 拆洗衣機拿晶片!ASML執行長曝企業「拾荒」應急 真的沒招了

    全球晶片短缺持續約2年之久,各大半導體廠積極擴產以滿足需求的同時,市場也擔心未來需求反轉,出現供過於求的情形。但半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML)執行長溫寧克(Peter Wennink)則表示,半導體設備需求沒有減弱的跡象,甚至透露有工業大廠採購老舊洗衣機,只為拆解後取出其中晶片應急。 路透社報導,艾司摩爾周三(20日)公布第一季財報,優於市場預期。溫寧克在與分析師的電話會議上表示,目前並未看到客戶有任何需求下降的跡象,他補充,「儘管出現需求疲弱,當前需求和我們的產能仍存有極大的差距」。 此外,溫寧克反駁市場上關於半導體設備產業可能出現閒置的問題。他說,公司尖端產品的等待交貨時間都超過1年,幾乎所有的客戶,都在搶購老舊的半導體設備。 溫寧克藉一家不具名工業大廠的故事,反映目前晶片短缺有多嚴重。這家大廠正在採購老舊的洗衣機,透過拆解取出裡面的晶片,以緩解目前的壓力;而且溫寧克強調,「這情況並不罕見」。 溫寧克表示,該公司設備使用率目前位於歷史高點,這意味著客戶的需求並不是為了囤貨,而是為了跟上需求,「是否會太過樂觀?我們只是在看數據說話,這些全都指向一個明顯缺乏晶片製造能力的市場,無論今年或明年都是」。

  • 《科技》ASML上季營運略優預期 全年營收拚增2成不變

    【時報記者林資傑台北報導】半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)公布2022年首季財報,整體表現略優於財測及市場預期。展望第二季,公司預期營收將落在51~53億歐元,季增約44.3~50%、年減約1.4~5.1%,毛利率估微升至49~50%,並表示對全年營收成長達20%的目標不變。  ASML首季合併營收35.43億歐元,季減29.1%、年減19%,毛利率49%、營益率22.2%,低於去年第四季54.2%、40.7%及同期53.9%、35.8%。稅後淨利6.95億歐元,季減60.8%、年減47.8%,每股盈餘1.73元,低於去年第四季4.39元及同期3.21元。 ASML總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)表示,首季營收及毛利率表現符合財測預期,且新增訂單達70億元,其中25億歐元來自0.33 NA和0.55 NA極紫外光(EUV)系統、以及深紫外光(DUV)系統訂單,反映市場對先進和成熟製程節點的需求維持強勁。  展望第二季,ASML預估營收約落在51~53億歐元,季增約44.3~50%、年減約1.4~5.1%,毛利率估微升至49~50%,研發成本約7.9億歐元,管銷費用約2.2億歐元。同時,公司仍樂觀預期全年營收將成長達20%。  溫彼得指出,客戶對系統出貨的需求仍高於公司目前產能,公司將持續提供現場系統生產力升級方案、優化工廠生產周期、及快速發貨流程來滿足客戶需求。此外,公司也積極與供應鏈夥伴合作大幅擴產,預計將在下半年更新2025年情境和未來成長機會預估。

  • 《國際產業》ASML上季業績略優預期 全年成長維持20%

    【時報編譯張朝欽綜合外電報導】荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)周三發布上季(1~3月)財報。  第一季營收為35.34億歐元(約38億美元),低於去年同期的43.64億歐元;毛利17.31億歐元,低於去年同期的23.52億歐元;毛利率為49.0%;淨利6.95億歐元。  根據Refinitiv資料,分析師此前預測,艾司摩爾上季營收應為34.4億歐元,淨利為6.21億歐元。艾司摩爾表現略優於預期,而且訂單依舊強勁。  而今年1月,艾司摩爾的財測預計第一季營收為33億至35億歐元。  該歐洲最大科技公司表示,由於全球半導體短缺,客戶競相增加產能,因此訂單依舊強勁,公司市值達2260億歐元。  財務長Roger Dassen在聲明中表示,公司正在非常努力應對供應鏈問題。 公司預計第二季營收為51億至53億歐元間,全年營收成長維持在20%不變。第二季淨訂單預計在70億歐元。  Dassen表示,全年毛利可能更接近52%,而不是一月財測的53%,部分原因為勞動力、運輸、能源成本上升問題。  艾司摩爾預計2024年才能趕上當前的積壓訂單。公司正採取措施,在努力擴大生產,減少交貨時間,提高工具的生產率。  第一季度的營收資料不包括價值約20億歐元的設備裝置,客戶要求裝置在完全測試之前立即出貨。這些交貨尚不能作為銷售入帳,但ASML預計將在未來幾季確認這一收入。  財務長也表示,公司收到了次世代「EUV High NA」機型多個訂單,該機型仍在研發中。他補充說,此類客戶中首次出現了記憶體晶片製造商。  晶片需求做為成長結構的一部分,該公司預計到2030年,晶片營收的年均成長率為11%。  艾司摩爾將在當地時間下午3點舉行投資人會議。

  • ASML今年擬在台招募千人

     曝光機設備大廠艾司摩爾(ASML)為因應半導體設備需求看增,預計今年將在台灣營運據點招募1,000名新血,且碩士畢業新進員工加計輪班津貼後,全年薪水有望上看新台幣160萬元。  艾司摩爾台灣區暨東南亞區人資協理劉伯玲預期,2022年在台員工人數有機會上看4,200人,躍為艾司摩爾在亞洲最大據點。  劉伯玲表示,由於半導體產業人力市場競爭激烈,因此艾司摩爾2021年7月就展開調薪,且2022年初再度上調員工薪資,推估半年內薪資上漲15~19%。  艾司摩爾將於3月5日起展開全台校園徵才,屆時將推出艾司摩爾創新體驗車及混合實境(MR)裝機體驗,讓大學新鮮人更加認識艾司摩爾的先進微影技術。  近期半導體產業持續搶攻人才,IC設計大廠聯發科、晶圓代工廠世界先進相繼釋出徵才訊息,聯發科人才缺口至少2,000人,世界先進預計召募1,000人,隨著5日校園徵才活動將從台大開跑,搶「人」大作戰隨著開打。  半導體產業近兩年來迎來超級旺季,聯發科2022年營運挑戰200億美元,世界先進產能滿載,正啟動擴廠,艾司摩爾搭上先進製程需求成長,加上IDM大廠及晶圓代工廠都在擴產,使設備需求大增,人才需求也暴增。  為提前鎖定優秀菁英,聯發科2022年暑期實習生招募人數翻倍,每位實習生投入超過10萬元培育費用,且提供實習生高達七成預聘正職員工機會。

  • 《科技》ASML半年調薪逾15% 在台擴大徵才千人

    【時報記者林資傑台北報導】半導體設備商ASML(艾司摩爾)因應業務拓展並看好台灣半導體人才實力,今(4)日宣布在台啟動大規模徵才計畫,目標今年在台招募1000位工程師。台灣暨東南亞區人資協理劉伯玲表示,為了求才及留才,自去年7月以來已實質調薪15~19%。  ASML目前在林口、新竹、台中、台南設有服務據點、量測設備製造廠與培訓中心,員工超過3600人、約占全球員工10%。隨著客戶需求成長,為提供最佳支援服務,優化量測、檢測產品的研發支援能力,並打造台灣成為全球供應鏈管理中心,ASML持續擴大在台營運。 ASML為了求才與留才而提供具競爭力的薪資及福利,劉伯玲表示,自去年7月以來實質調薪幅度已達15~19%。新進碩士畢業的客戶支援工程師加計輪班津貼後年薪上看160萬,並進一步提供彈性工時及每周1天在家工作選擇,讓員工有更多彈性及空間取得工作生活平衡。  ASML今年預計在台招募1000名工程師,全台員工至年底估達4200人。同時,明(5)日起全面展開全台校園徵才活動,推出「ASML創新體驗車-EUV關鍵技術解密」和「MR擴增實境裝機體驗」,讓新鮮人更認識ASML獨步全球的極紫外線(EUV)微影技術。  劉伯玲表示,ASML重視人才國際化及員工發展,台灣是集團在亞洲的最大據點,匯聚來自25國的工作者,使工程師除能學習獨步業界的微影技術、參與最先進的半導體製程技術發展,更能與各國同事共事交流,成為國際化的工程菁英人才。  劉伯玲指出,除了具競爭力的薪資福利外,ASML更提供全球工作輪調機會及全方位職能培訓,強調「以人為本」、「開放尊重」的管理制度,期盼提供開放、尊重的國際化工作平台,持續為台灣工程人才創造優質就業機會,並和客戶共同推動全球半導體產業發展。

  • 《國際產業》烏克蘭供應疑慮 ASML研究氖氣替代來源

    【時報編譯張朝欽綜合外電報導】半導體設備商艾司摩爾(ASML)周三指出,正在研究其工廠使用的氖氣(Neon)替代來源。目前由於俄羅斯與烏克蘭的潛在軍事衝突,氖氣供應可能出現中斷。  烏克蘭是全球最大的氖氣生產國,但是艾司摩爾發言人周三表示,該公司使用的該氣體只有不到20%來自這些國家。  氖氣主要是俄羅斯鋼鐵業生產的副產品,然後在烏克蘭進行純化。氖氣是在晶片製造當中用於雷射曝光製程的關鍵材料,2014年俄烏在克里米亞衝突期間,價格曾經飆升。

  • ASML指涉侵權 東方晶源:與事實不符

    荷蘭曝光機巨頭艾司摩爾(ASML)日前指出,中國企業東方晶源可能侵權。對此,東方晶源微電子科技(北京)有限公司11日晚間回應,近期網路相關報導與事實不符,並指公司尊重、保護智慧財產權,並形成獨立、完備的智慧財產權體系。 路透報導,東方晶源在官網發聲明指出,公司已成功自主研發出運算曝光軟體(OPC)、奈米級電子束檢測設備(EBI)及關鍵尺寸量測設備(CD-SEM)三款核心產品。 東方晶源表示,公司自成立以來一直遵守中國法律法規、合法合規經營,又指未來將繼續與產業鏈上下游夥伴合作,專注中國半導體核心技術的研發與突破。 ASML日前在年報中指出,東方晶源在中國積極銷售可能侵犯其智慧財產權的產品,並指已經向中國當局表達關切,正密切關注事態發展,並準備好在合適時機採取法律行動。

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