據外電報導,三星於2025年即將量產三星2奈米製程技術,將較3奈米製程多出30%的極紫外光(EUV)曝光層。
三星於2018年首次開始在其7奈米節點製程上開始使用EUV曝光技術,從那時起,隨著轉移到5奈米,再到 3奈米節點,三星在晶片生產過程中的EUV曝光層的數量或EUV技術的步驟數量也在持續成長。
據報導,三星的 2 奈米節點製程已經增加到了20層的EUV曝光層。而三星的 1.4 奈米節點製程則預計將有 30多個EUV曝光層。在此同時,三星也將EUV曝光設備應用於其DRAM生產上。
據外電報導,三星於2025年即將量產三星2奈米製程技術,將較3奈米製程多出30%的極紫外光(EUV)曝光層。
三星於2018年首次開始在其7奈米節點製程上開始使用EUV曝光技術,從那時起,隨著轉移到5奈米,再到 3奈米節點,三星在晶片生產過程中的EUV曝光層的數量或EUV技術的步驟數量也在持續成長。
據報導,三星的 2 奈米節點製程已經增加到了20層的EUV曝光層。而三星的 1.4 奈米節點製程則預計將有 30多個EUV曝光層。在此同時,三星也將EUV曝光設備應用於其DRAM生產上。
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