荷蘭半導體生產設備製造商艾司摩爾(ASML)的最新型「高數值孔徑極紫外光曝光機」(High-NA EUV),每台要價高達3.5億歐元(約新台幣123億元),台積電曾稱其過於昂貴,在2026年前使用無太大的經濟效益,但如今ASML證實,今年底前將交付此機台設備給台積電。

據美國財經媒體5日報導,ASML發言人透露,財務長達森(Roger Dassen)最近在電話會議中向分析師表示,ASML前兩大客戶台積電和英特爾(Intel)將於年底前收到高數值孔徑EUV。去年12月,英特爾已搶先拿下業界第一台,並在美國俄勒岡州的工廠完成組裝,預計2027年啟用。

高數值孔徑EUV的列印尺寸比現有EUV機台縮小1.7倍,將用於生產驅動人工智慧(AI)應用程式和先進消費電子產品的晶片。這款EUV的重量高達150公噸,相當於2架空中巴士A320客機。

今年5月,台積電歐亞業務資深副總經理張曉強曾在阿姆斯特丹表示:「我喜歡高數值孔徑EUV的能力,但我不喜歡它的標價。」他稱,台積電2026年下半年將量產的A16(1.6奈米)先進製程節點,不一定要用ASML的最新型EUV,可以繼續使用手上較舊款的EUV。

然而,台積電一直積極參與ASML的高數值孔徑EUV計畫。華爾街投行傑富瑞(Jefferies)的分析師梅農(Janardan Menon)預測,台積電2028年在A14(1.4奈米)製程節點將採用高數值孔徑EUV。

在最新型EUV出貨消息激勵下,ASML歐洲股價5日飆漲8.1%,市值來到3770億歐元(約4100億美元),超越法國酩悅軒尼詩-路易威登集團(LVMH),躍升為歐洲市值第2大企業。

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