【時報記者林資傑台北報導】IC封測設備業者庫力索法(Kulicke & Soffa, K&S)今(5)日宣布,加入由工研院(ITRI)領軍的異質整合系統及封裝開發聯盟(Hi-CHIP),將與其他重要產業參與者共同合作,探索前瞻性的半導體封裝技術和解決方案、開發下一代應用。
Hi-CHIP聯盟利用庫力索法的先進封裝能力和LITEQ 500步進曝光微影製程,以實現高密度重布線路層(RDL)。高密度RDL是扇出晶圓級封裝(FOWLP)和類似方法的推動者,為電信、運算、車用和生醫等市場提供性能、熱管理、功耗和縮小尺寸改進等服務。
除了為新興的異質整合應用提供市場解決方案外,RDL還用於許多其他快速成長的應用。庫力索法指出,這些新興應用的發展,將加速半導體產品銷售成長,推動對公司高精度覆晶機、熱壓接合機和微影系統的需求。
RDL的應用領域尚包括5G毫米波(mmWave)和Sub 6射頻(RF)模組的天線封裝、基頻處理器和智慧手機應用處理器的整合解決方案、整合射頻和記憶體的人工智慧解決方案,以及如系統級封裝(SiP)等其他電晶體密集型應用。
庫力索法表示,LITEQ 500步進曝光機使用雷射為基礎光源,提供高強度曝光,不會隨時間降低光源強度。該方案可實現高產量、高正常運行時間、高耐久和低擁有成本,單波長光源支持高透射率和低像差光學器件,使其成為高密度RDL應用的優選。
工研院電子與光電系統研究所所長張世杰表示,庫力索法的加入,有助進一步探索前瞻性半導體封裝技術和解決方案。庫力索法產品與解決方案執行副總裁張贊彬則表示,與工研院合作開發下一代應用,是進一步增加先進封裝產品應用、達到最佳價值化的絕佳機會。
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